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苏大维格:现阶段公司光刻设备主要应用于微纳光学材料、MEMS以及特定领域半导体比如半导体功率芯片等产品的研发与制造

发布时间:2020-06-19 19:52    来源媒体:同花顺

同花顺(300033)金融研究中心6月19日讯,有投资者向苏大维格(300331)(300331)提问, 董秘你好,有网友说公司主要技术骨干参加国家重点研究项目一一半导体光刻机的研发?另外,公司最近营运状况如何?应该比第一季度好许多吧?

公司回答表示,公司自成立以来一直在研发高端微纳制造光刻设备,发展形成了公司自主的微纳光学技术平台。现阶段,公司光刻设备主要应用于微纳光学材料、MEMS以及特定领域半导体比如半导体功率芯片等产品的研发与制造。公司重点研发项目信息在定期报告与临时报告中皆有披露。公司目前经营正常,近期经营成果敬请关注公司定期报告。谢谢!

责任编辑:cdl

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